一、行業簡介
        半導體、集成（chéng）電路芯片及封裝、液晶顯示、高（gāo）精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大（dà）規模、超大規（guī）模集成電路需用大（dà）量的純水（shuǐ）、高純水、超（chāo）純水清洗半成品（pǐn）、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄（zhǎi），對水（shuǐ）質的（de）要求（qiú）也越高。目前我國電子工業部把電（diàn）子級水質技術分為五個行（háng）業等級（jí），分（fèn）別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
二、應用範圍
1、電子、電力、電（diàn）鍍（dù）、照明電器、實（shí）驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池（chí）、化驗、生物、製藥、石（shí）油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
2、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用純水。
3、單晶矽、半導體晶片切割製造、半導體芯片（piàn）、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯示器（qì）、導電（diàn）玻（bō）璃、顯像管、線路板、光通信、電（diàn）腦（nǎo）元件、電容（róng）器潔淨產品及各種元器件等生產工藝（yì）用純水。
三、工藝簡介
1、係統模塊化設計，共分四部分：預處理係統、反滲透（tòu）係統、EDI係統（tǒng）、終端供水係統。
2、預處理係統主要用來去除原水中的懸浮物、濁度、色（sè）度、膠體以（yǐ）及部分（fèn）有機物，保證產水（shuǐ）符合反滲透係統的進水水質要（yào）求。
3、反滲透係統主要用來去除原水中溶解（jiě）性鹽類物質、細（xì）菌、熱源等，保證產（chǎn）水符合EDI係統進水水質要求。
4、EDI係統主要用來對反滲透產水進行進一（yī）步脫除溶（róng）解性的小分子鹽類物質，產水（shuǐ）達到電阻率（lǜ）達到（dào）15MΩ.cm以上。
5、終端供水係（xì）統（tǒng）主（zhǔ）要是用來將合格水輸送（sòng）至用水點，輸送過程（chéng）中對EDI產生進行最後的（de）離子交換脫鹽，使得產水達到電阻率達（dá）到18MΩ.cm以上。
6、整個係統進（jìn）行集中控製。

四、技術特色
1、係（xì）統模塊化（huà）設計，占（zhàn）地麵積小，操作維護方便，安裝方便快（kuài）捷，整體（tǐ）美（měi）觀。
2、整套係統實現全自（zì）動化運行，並且手動與自動自由切換。
3、設備產水水質穩定，運行連續穩定。
4、係統（tǒng）工藝先進，無需化學（xué）藥品再生，無危害性廢液排放。
5、係統節水（shuǐ）率高，係統回收率在75%以上。
6、關（guān）鍵部位采用在線儀表監測，適時（shí）數據上傳。
五、設備參數
1、係統回收率：
        超濾≥90%
        一級反（fǎn）滲透≥75%
        二級反滲（shèn）透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備產水符合（hé）《電子超純水（shuǐ）國家標（biāo）準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半導體工業純水指標。
3、單支（zhī）膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。