一、行（háng）業簡介
        半導（dǎo）體、集成電路芯（xīn）片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電（diàn）器件、各種電子器件、微電子工（gōng）業、大規模、超大（dà）規模集成電（diàn）路需用（yòng）大量的純水（shuǐ）、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的（de）集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高（gāo）。目前我（wǒ）國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等（děng）級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
二（èr）、應用範圍
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗（yàn）室（shì）、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、製藥（yào）、石油、化工、鋼（gāng）鐵、玻璃等領域。
2、化工工藝（yì）用水、化學藥劑、化妝品（pǐn）等用純（chún）水。
3、單晶矽、半導體晶片（piàn）切割製造、半導體芯片（piàn）、半導體封裝（zhuāng） 、引線櫃架、集成電（diàn）路、液晶顯示器、導電玻璃（lí）、顯像管、線路板、光通信、電（diàn）腦元件、電容器潔淨產品及各（gè）種元（yuán）器件等生產工藝用純水（shuǐ）。
三、工藝簡介（jiè）
1、係統模塊化設計，共（gòng）分（fèn）四部分：預處理係統、反滲透係統、EDI係統、終端供水係統。
2、預處理係統主要用來去除原水中的懸浮物、濁（zhuó）度、色度、膠體以及部分（fèn）有機（jī）物，保（bǎo）證產水符合反滲透（tòu）係統的進水水質要求。
3、反滲透係統主要用來去除原（yuán）水中溶解性鹽類物質、細（xì）菌、熱源等，保證（zhèng）產水符合EDI係統（tǒng）進水水質要求。
4、EDI係統主要用來對反滲透產水進行進一步脫除溶解性的小分（fèn）子（zǐ）鹽類物質，產水達到電阻率達到15MΩ.cm以上。
5、終端供水係統主要是用來將合格水輸送至用水（shuǐ）點，輸送（sòng）過程中對EDI產生進行最後的離子交換脫鹽，使得產水達到電阻率達到（dào）18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行集中控製。

四、技術特色
1、係（xì）統模塊化設計，占地麵積小，操作（zuò）維護方便，安裝方便快捷，整體美觀。
2、整套係統實現全（quán）自（zì）動化運行，並且手動與自動自由切（qiē）換。
3、設備產水水質穩定，運行連續穩定（dìng）。
4、係統工藝（yì）先（xiān）進，無需化學藥品再生，無危害性廢液排（pái）放。
5、係統節水率高，係統回收率在75%以上（shàng）。
6、關鍵部位采用在線儀（yí）表監測，適時（shí）數據上傳。
五、設備（bèi）參數
1、係統回收率：
        超濾（lǜ）≥90%
        一（yī）級反滲透≥75%
        二級反滲透（tòu）≥85%
        EDI係統（tǒng）≥90%
2、設備產水符（fú）合《電子超純水國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半（bàn）導體工業純水（shuǐ）指標。
3、單支膜（mó）脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。